日本 CKD 喜開理作為流體控制領域，其 HVL12 系列延遲真空電磁閥專為高精密真空系統(tǒng)設計，憑借精準的延遲控制與優(yōu)異的密封性能，廣泛應用于半導體制造、真空鍍膜、電子元件封裝等工業(yè)場景。以下從核心參數(shù)、產(chǎn)品優(yōu)勢、型號組成三方面進行全面解析。
HVL12 系列采用直動式結(jié)構(gòu)與特殊密封技術，在真空保持與延遲控制方面表現(xiàn)突出，關鍵參數(shù)如下表所示：
注：流體需保持干燥，否則可能顯著縮短產(chǎn)品耐久性；DC 型具有極性，需按紅正黑負接線。
采用特殊密封材質(zhì)與閥座結(jié)構(gòu)設計，泄漏量控制在 1.3×10??Pa?m3/s 以下，可滿足高真空系統(tǒng)的嚴苛要求。在半導體晶圓制造等場景中，能有效防止外部雜質(zhì)侵入真空腔室，避免產(chǎn)品污染導致的良率下降。同時，斷電后可維持真空狀態(tài)，配合延遲功能實現(xiàn)腔室保護。
內(nèi)置斷電延遲模塊，可根據(jù)電壓類型設定 8 秒（AC）或 10 秒（DC）的延遲時間，精準控制真空腔室的大氣開放時序。在真空鍍膜設備中，能確保真空泵與腔室之間的管路先泄壓，再開放大氣，避免停電時油分倒灌污染腔室，降低設備維護成本。
采用薄型線圈與一體化閥體設計，重量最輕僅 0.2kg，且支持自由安裝方式，可靈活嵌入真空鍍膜機、電子束加工機等空間受限的設備內(nèi)部。搭配多種標準化真空接頭，能快速與現(xiàn)有管路對接，減少安裝工時。
覆蓋從高真空（1.3×10??Pa）到常壓（2.0×10?Pa）的全壓力范圍，適配空氣、氮氣等多種惰性氣體介質(zhì)。提供 DC24V、AC200V 等常見電壓選項，可直接匹配工業(yè)設備的電源系統(tǒng)，無需額外配置變壓器。
CKD HVL12 系列型號采用模塊化編碼規(guī)則，通過后綴組合明確產(chǎn)品規(guī)格，以典型型號HVL12-4S6-5-AC200V為例，各部分含義如下：
接口選擇：需根據(jù)管路尺寸匹配 Rc 螺紋或雙卡套接頭，例如半導體設備常用 NW10.16 真空夾緊接頭，可對應選型代碼為 “7S10" 的型號。
電壓匹配：工業(yè)自動化設備優(yōu)先選擇 DC24V 型號，傳統(tǒng)動力系統(tǒng)可適配 AC100V/200V 規(guī)格，選型時需確認設備電源波動范圍是否在 ±10% 以內(nèi)。
功能擴展：部分特殊型號帶手動應急閥桿，在斷電且無需延遲功能時可手動操作，對應代碼為 “6"，適合對設備可用性要求的場景。
該產(chǎn)品目前已廣泛應用于三大領域：一是電子制造，如 LCD 面板真空貼合設備的腔室壓力控制；二是精密儀器，在分子加速器的真空管路中實現(xiàn)安全泄壓；三是新材料加工，配合真空燒結(jié)爐完成陶瓷制品的無氧燒結(jié)過程。
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更新時間：2025-10-09
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